この記事では、LSIの工程で使用される洗浄の方法を解説していこうと思います。 洗浄工程では重要なパラメータが3つあります。 ・薬液種・使用温度・濃度比 この3つで洗浄工程の精度が決まります。 今回はこの様なパラメー...

半導体デバイスは様々な材料で構成されていて、多くのチップが組み合わさって形成されています。それだけに多くの原因が起因して故障したり、不良したりします。本記事ではそのような「故障」や「不良」についてまとめていきたいと思います。 ...

今回はようやくキャリア密度の導出を行っていきます。 キャリア密度の導出は定期試験や大学院入試でも頻出だと思うので是非頑張って理解してみてください！ そもそもキャリア密度とは キャリア密度は半導体中に存在する電流の...

ツェナーダイオードやアバランシェは逆方向電圧で使用されるダイオードです。この逆方向電圧を印加した際にある一定の電圧に達した際に降伏現象が生じます。 今回はこの降伏現象やダイオードの仕組みについて説明していきます。 降伏現象とは...

半導体電バイスの電気的特性の評価はいくつかの手法があります。今回はその中の一つであるTLM法についてご紹介します。 TLM法とは？ TLM法(Transfer length method法)とはチャネルのシート抵抗と電極/チャ...

シュレディンガー方程式とは？ 時間を含まないシュレディンガー方程式は特に $$ -\frac{ℏ^2}{2m}\frac{∂^2ψ}{∂x^2}+(V(x))-E)ψ=0 $$ という形で表されます。 ここ...

今回はヘテロ接合について解説していきます。 半導体の接合には様々ありますが、歴史的に見ていくと金属ー半導体接触, pn接合,ヘテロ接合の順に認識されてきました。 ヘテロ接合とは何か？ ヘテロ接合は一言で言うと異なる材料同...

半導体工学の勉強やデバイスの研究をしている方はこの言葉をよく聞くと思います。 今回は金属/半導体の接続に関して取り扱っていきたいと思います。 ショットキー接続とオーミック接続とは何なのでしょうか？ 「オームの法則」はV=...

今回はMOS構造について解説していきます。MOS構造ではその特殊な構造ゆえに特殊な現象が起こります。 MOSとは？ MOSはMetal-Oxide-Semiconductorの略で、半導体と金属で酸化物を挟んだ構造になります。...

pn接合について解説していきます。 p型半導体とn型半導体をくっつけた時に少し特異な現象が起こります。 PN接合と呼ばれる接触面が形成され電気的に不思議な挙動を示します。 今回はこのpn接合について解説していきます。 ...